Ausstattung

Urformtechnik

• Kaltkammer-Druckgießmaschine Frech DAK 450-54
  mit Impeller und Dosierroboter; echtzeitgeregelt, 4500 kN Schließkraft
• Feingießanlage Systec FCBC
  Abgussgewicht max. 10 kg Ni-Basislegierung
• Feingießanlage VIC Unit 7
  Abgussgewicht max. 0,6 kg Ni-Basislegierung
• Lichtbogenumschmelzofen Bühler Arc Melter AM/05
  Erschmelzen im Labormaßstab (Einwaage max. 150 g)
  
• Induktionsschmelzofen EFD HFP12
  Schmelzen im Labormaßstab
• Horizontal-Attritor Fa. Zoz
  Mechanisches Legieren mit Mahlvolumen 8 l
• Exzenterschwingmühle Fa. Siebtechnik
  Mechanisches Legieren mit Mahlvolumen 19 l

Additive Fertigung

• Elektronenstrahlschmelzanlage Arcam A2
  Additive Fertigung aus dem Pulverbett (Standort am ZMP)
• Elektronenstrahlschmelzanlage Arcam Q10
  Dito, aber besonders kleiner Strahldurchmesser (Standort am ZMP)
• Elektronenstrahlschmelzanlage ATHENE
  Dito, aber besonders hohe Leistungsdaten
• Laserauftragschweißanlage InssTek
  Additive Fertigung im Pulverstrom

Wärmebehandlung

• Hochvakuumofen MUT
  bis 1200 °C unter Schutzgas und Hochvakuum
• Hochvakuumofen Gero LHTM 250/300
  bis 1500 °C unter Schutzgas und Hochvakuum (Standort am ZMP)
• div. Kammeröfen
  bis 1500 °C

Beschichtungstechnik

• Mikrowellen-Plasma CVD-Diamantbeschichtungsanlage ASTeX AX 6350
  Gesamtleistung 5 kW, Beschichtungsfläche 20 cm²
• Heißdraht CVD-Diamantbeschichtungsanlage CemeCon CC800DIA/9
  Gesamtleistung 120 kW, Beschichtungsfläche ca. 5000 cm² (Standort am ZMP)
• Heißdraht CVD-Diamantbeschichtungsanlage CemeCon WTMCC800DIA-8 Katharina
  Gesamtleistung 60 kW, Beschichtungsfläche ca. 2000 cm², Bor-Dotierung möglich
• Heißdraht CVD-Diamantbeschichtungsanlage CemeCon WTMCC800DIA-8  Eleonore
  Gesamtleistung 60 kW, Beschichtungsfläche ca. 2000 cm²
• Heißdraht CVD-Diamantbeschichtungsanlage WTM XXL Lucie
  Gesamtleistung 100 kW, Beschichtungsfläche ca. 10000 cm²
• Heißdraht CVD-Diamantbeschichtungsanlage WTM CVI
  Gesamtleistung 20 kW, Beschichtungsfläche ca. 700 cm²
• Strukturierungslaser Rofin RSM-100D
  Strukturierungsfläche ca. 200 cm²
• Strukturierungslaser Rofin 20E LP
  Struktierungsfläche ca. 1000 cm²

Mechanische Prüfung

• Indentierungs Plastometer Plastometrex Profilometry-based Indentation Plastometry (PIP) inklusive Hot-PIP
  Bestimmung mechanischer Kennwerte äquivalent zum Zugversuch bei RT…800 °C
• Universalprüfmaschine Hegewald & Peschke retrofit 100
  Zugprüfung bis 100 kN bei RT…1100 °C, Druckprüfung bis 50 kN bei RT
• Universalprüfmaschine Instron Wolpert
  Zugprüfung bis 2 kN bei RT, Druckprüfung bis 1 kN bei RT
• Resonanzpulser Roell Amsler Vibro Win
  Dauerschwingversuche bis 50kN bei RT…800 °C
• Zeitstandanlagen ATS 2330-CC
  Kriechversuche bis 50 kN und 1100 °C
• Kerbschlaghammer Wolpert W-Testor PW30/15K
  Bestimmung der Kerbschlagarbeit bis 30 kp
• Tribologie-Prüfstand Wazau TRM 1000
  Scheibe-Scheibe- und Stift-Scheibe-Aufbau bei RT…150 °C
• Makrohärteprüfer Wolpert Dia-Testor
  Vickers- und Brinellhärteprüfung mit 1…250 kp Prüflast
• Mikrohärteprüfer Leco M-400-G
  Vickershärteprüfung mit 0,01…1 kp Prüflast
• Resonanzfrequenzanalysator IMCE RFDA Professional
  Bestimmung von E-Modul und Dämpfung bei RT

Physikalische und optische Analyse

• DSC/TGA Netzsch STA409
  Differentialthermoanalyse und Thermogravimetrie RT…1550 °C
• Dilatometer Netzsch DIL 402 C
  Besimmung der Längenausdehnung RT…2000 °C (Standort am ZMP)
• Laserflash-Apparatur Linseis – LFA 1000
  Bestimmung von Wärmeleitfähigkeit/Temperaturleitfähigkeit bei RT…1200 °C (Standort am ZMP)
• Konfokales Raman Mikroskop WITec alpha300R – mit Sonde alphaCART
  Bestimmung der Kristallinität, Dotierung und chemischer Zusammensetzung kovalenter Verbindungen
• Röntgen-Computertomograph Scanco Medical µCT-40
  Auflösung max. 10 µm, abh. von Werkstoff und Probengeometrie
• Röntgen-Computertomograph Fraunhofer ERZT
  Auflösung max. 10 µm, abh. von Werkstoff und Probengeometrie (Standort am ZMP)
• Funkenemissionsspektrometer Ametek Spectromaxx
  Chem. Analyse für Fe-, Al-, Mg-, Ni- und Ti-Legierungen (Standort am ZMP)
• Mikrosonde Jeol JXA 8100
  Ortsauflösende chem. Analyse (wellenlängendispersiv)
• Ionenmühle Leica EM TIC 3X
  Probenpräparation für die ortsauflösende chem. Analyse
• Rasterelektronenmikroskop FEI Quanta 450
  mit EDX (ortsauflösende energiedispersive chem. Analyse)
• Rasterelektronenmikroskop FEI Helios NanoLab 600i FIB
  Hochauflösendes REM mit EDX, FIB (Ionenstrahlskalpell) und EBSD (kristallographische Orientierungsmessung) (Standort am ZMP)
• Konfokales Lasermikroskop Olympus  Lext OLS 4000
  Berührungslose Oberflächencharakterisierung (Standort am ZMP)
• Lichtmikroskope Leica DM6000M, Leica M205C, Zeiss Axiophot und Zeiss Axio Imager
  Auflichtmikroskopie (Hell- und Dunkelfeld, Polarisation, Interferenzkontrast nach Nomarski) mit quantitativer Gefügeanalyse (Standort am WTM und ZMP)

Probenpräparation

• vollausgestattete Metallographie
• vollausgestattete Mechanikwerkstatt

Simulation

• Additive Fertigung (Software: In-House-Entwicklungen)
• Schaumbildung (Software: In-House-Entwicklungen)
• Thermodynamik und Kinetik (Software: Thermo-Calc, DICTRA und In-House-Entwicklungen)
• Formfüllung beim Druckgießen (Software: Flow-3D cast)